Экстремальный китайский ультрафиолет

Прототип был создан командой бывших инженеров нидерландского полупроводникового гиганта ASML, которые, по словам двух источников Reuters, знакомых с проектом, провели обратное проектирование машины экстремальной ультрафиолетовой литографии (EUV), разработанной в ASML

Китайская машина работает и успешно генерирует экстремальный ультрафиолетовый свет, но пока не произвела работающих чипов, сообщили Reuters источники.

В апреле этого года генеральный директор ASML Кристоф Фуке заявил, что для разработки такой технологии Китаю потребуется «много-много лет». Однако появление этого прототипа свидетельствует о том, что Китай может быть ближе к достижению полупроводниковой независимости, чем предполагали аналитики.

Ветераны ASML китайского происхождения

Этот прорыв, как отмечают эксперты, представляет собой кульминацию шестилетних усилий китайских специалистов по достижению полупроводниковой самодостаточности — одного из приоритетов председателя КНР Си Цзиньпина.

Проект входит в Национальную стратегию развития полупроводниковой промышленности, которую, по данным китайских СМИ, возглавляет Дин Сюэсян, руководитель Центральной научно-технической комиссии Коммунистической партии Китая.

До сих пор технологией EUV обладает лишь одна компания —нидерландская ASML, штаб-квартира которой находится в Велдховене. Ее оборудование стоимостью в сотни миллионов долларов незаменимо для производства самых передовых чипов, разработанных такими компаниями, как Nvidia и AMD, и выпускаемых TSMC, Intel и Samsung.

Свой первый рабочий прототип технологии EUV компания ASML создала в 2001 году, и потребовалось почти два десятилетия и миллиарды евро, потраченные на НИОКР, прежде чем в 2019-м были выпущены первые коммерчески доступные чипы.

Начиная с 2018 года Соединенные Штаты начали оказывать на Нидерланды давление, чтобы заблокировать продажу систем EUV Китаю. Ограничения расширились в 2022-м, когда администрация Джо Байдена ввела масштабный экспортный контроль, призванный перекрыть Китаю доступ к передовым полупроводниковым технологиям. «Ни одна система EUV никогда не продавалась клиентам в Китае», — заявила ASML агентству Reuters.

А Госдепартамент США сообщил, что администрация Дональда Трампа усилила контроль за экспортом передового оборудования для производства полупроводников и работает с партнерами «над устранением лазеек по мере развития технологий». Но оказалось, что в команду китайского проекта вошли недавно вышедшие на пенсию инженеры и ученые ASML китайского происхождения. Именно ветераны ASML сделали возможным прорыв в Шэньчжэне. Без их знания технологии обратное проектирование оборудования было бы невозможно.

Как рассказали источники Reuters, один опытный китайский инженер из ASML, принятый на работу в китайскую компанию, оказавшись внутри, узнал других бывших коллег из ASML. Для привлечения экспертов в области полупроводников, работающих за рубежом, предлагались бонусы за подписание контракта в размере от 3 до 5 млн юаней (от 420 тыс. до 700 тыс. долларов США) и субсидии на покупку жилья.

В число новобранцев входил Линь Нань, бывший руководитель отдела технологий источников света ASML, чья команда в Шанхайском институте оптики Китайской академии наук за 18 месяцев подала восемь патентов на источники света EUV.

Самые передовые системы EUV компании ASML — это машины размером с автобус, которые весят 180 тонн. После неудачных попыток уложиться в эти размеры прототип в лаборатории в Шэньчжэне был многократно увеличен для повышения его мощности. Прототип китайского производства отстает от машин ASML, но при этом достаточно работоспособен для проведения испытаний.

К концу двадцатых

Проект EUV находится под управлением китайского правительства, а в каждом этапе цепочки, от проектирования микросхем и оборудования для их производства до изготовления и окончательной интеграции в такие продукты, как смартфоны, участвует компания Huawei. Для выполнения этой работы компания направила своих сотрудников в офисы, производственные цеха и исследовательские центры по всей стране.

Как сказал Reuters Джефф Кох, аналитик исследовательской фирмы SemiAnalysis и бывший инженер ASML, Китай добьется «значительного прогресса». Без сомнения, китайский проект технически осуществим, вопрос лишь во времени. Преимущество Китая в том, что коммерческое EUV-литографическое производство уже существует, поэтому им не приходится начинать с нуля.

Тем не менее Китай по-прежнему сталкивается с серьезными техническими проблемами, особенно в воспроизведении прецизионных оптических систем, производимых западными поставщиками. Правительство КНР поставило цель производить работающие чипы на этом прототипе к 2028 году. Но люди, близкие к проекту, говорят, что более реалистичным сроком является 2030 год.

По материалам Reuters