Сколько в Поднебесной нанометров?

До настоящего времени монополистом в области изготовления таких установок была нидерландская ASML, которая под давлением американцев, введших санкции против Huawei, отказала ей в поставках этих установок в КНР. США явно рассчитывали, что таким образом им удастся остановить развитие микроэлектроники в Китае.

Цель фотолитографии в микроэлектронике — формирование заданного изображения на кремниевой подложке для получения необходимой топологии микросхемы. Для этого на кремниевую подложку наносят тонкий слой материала, из которого нужно сформировать рисунок. На этот слой наносится светочувствительный материал — фоторезист, который подвергается облучению через оптическую систему специальной машины — фотолитографа — и фотошаблон (маску). После последующей обработки фоторезиста на пластине остается заданный рисунок. Чем меньше длина волны излучения, тем меньше размеры получаемых элементов рисунка. В процессе изготовления микросхем операция фотолитографии на одной пластине повторяется многократно, и каждое новое изображение должно очень точно совмещаться с предыдущим.