Дешевле, чем ASML

Монополия нидерландской компании ASML (Advanced Semiconductor Materials Lithography) на производство EUV-фотолитографов, необходимых для производства микроэлектроники, не устраивает очень многих производителей микроэлектроники в мире. Тем более что эта монополия используется США (а от них зависят и Нидерланды, и сама компания ASML), которые запрещают поставку этого оборудования в некоторые страны, в нем нуждающиеся, для оказания давления на них. В первую очередь речь идет о России и Китае. Вот почему наши страны ведут собственные разработки таких установок. Об усилиях России в этом направлении, в частности, довольно подробно говорилось на форуме «Микроэлектроника 2023». Китай также занимается созданием таких установок, причем использующих синхротронное излучение.

Но монополия ASML не устраивает производителей и в других странах, которые ищут свои решения еще и потому, что фотолитографы этой компании стоят не просто дорого, а очень дорого. Цена самых современных установок достигает 250 млн долларов. Многие годы над решением этой задачи работает компания Canon, которая в октябре этого года сообщила о серьезных успехах на этом направлении: ее станки для печати 5-нм чипов, заявила Canon, в десять раз дешевле машин ASML. Причем японская компания идет своим путем, используя в своих установках технологию наноимпринтинга (nanoimprint), то есть, попросту говоря, штамповки — механической деформации резиста для отпечатков, а не его засветки, как в традиционной оптической фотолитографии. Получение разрешения 5 нм — выдающееся достижение. Такое оборудование компания уже готова поставлять заказчикам. Более того, она заявила о намерении достичь уровня 2 нм, что пока составляет проблему и для EUV-фотолитографии.

Термин «наноимпринтная литография» (НИЛ), или наноимпринтинг, впервые появился в литературе в 1990-е. Общая идея этой технологии — прямое воздействие штампа на специальный резист для получения в нем отпечатка-рельефа для дальнейшего его переноса на полупроводниковую пластину.