Микроэлектроника: просто, быстро и дешево

В феврале месяце этого года в Сан Хосе (Калифорния)состоялась очередная всемирная конференция Международного общества оптики и фотоники (SPIE), посвященная прогрессу в области фотолитографии. К сожалению, только недавно мы получили тексты четырех докладов, посвященных развитию голографической литографии, с которыми выступили на конференции представители швейцарской компании Nanotech SWLH GmbH, основанной нашими соотечественниками во главе с профессором, доктором физико-математических наук Вадимом Раховским в Швейцарии.
Активными участниками разработки, внесшими существенный вклад в развитие и создание голографической литографии, являются сотрудники компании профессор, доктор физико-математических наук А.С. Шамаев и кандидаты технических наук М.В. Борисов, Д.А. Челюбеев, В.В. Черник.
Только в Швейцарии они получили серьезную поддержку от Швейцарского научно -исследовательского института прикладных материалов науки и техники (Empa), который является частью Швейцарского федерального технологического института.

С 1970-х годов стоимость фотолитографии в производстве ИС достигла почти 70% общей стоимости производства. Стоимость производимого литографического оборудования выросла почти в 160 раз, превысив 200 млн долларов. Столь высокие затраты привели к значительной концентрации рынка производства микросхем и оборудования для этого производства в руках нескольких компаний. Например, ASML занимает 85% мирового рынка установок фотолитографии (степперов), и только три компании по производству микросхем, а именно Intel Corp., Samsung и TSMC, работают над технологиями ниже 14 нм.