Инновации 1 декабря 2024

Шанс для русского литографа

Российские ученые разработали собственную концепцию развития высокопроизводительной рентгеновской литографии. Она основана на ряде инновационных решений, которые приведут к снижению энергетики литографа, уменьшению его габаритных размеров, стоимости оборудования и его использования примерно на порядок
Шанс для русского литографа
Здание Института физики микроструктур (ИФМ) РАН
ИФМ РАН


Эта статья заведующего отделом Института физики микроструктур (ИФМ) РАН, доктора физико-математических наук Николая Чхало является продолжением обсуждения разработки в России новейшего EUV-фотолитографа — важнейшей установки, необходимой для изготовления микропроцессоров. Ранее эта тема была затронута в его интервью нашему журналу. На этот раз Николай Иванович рассказывает о новых подходах ИФМ к созданию таких установок, которые позволяют существенно облегчить их разработку и изготовление. Статья является кратким изложением препринта.

Получите доступ к полному тексту материала
Еще по теме:
29.01.2026
В российской микроэлектронике происходят серьезные организационные изменения, последствия которых окажут на отрасль серь...
23.01.2026
Томские ученые разработали технологию изготовления биодеградируемых костных имплантатов, которая позволяет сократить сро...
19.01.2026
Ведущие аналитические центры мира представили технологические прогнозы на краткосрочную перспективу. И в который уже раз...
16.01.2026
Одним из направлений цифровой трансформации экономики является разработка и внедрение цифровых двойников (ЦД) фи...
Наверх