Получите доступ к полному тексту материала
Инновации
1 декабря 2024
Шанс для русского литографа
Российские ученые разработали собственную концепцию развития высокопроизводительной рентгеновской литографии. Она основана на ряде инновационных решений, которые приведут к снижению энергетики литографа, уменьшению его габаритных размеров, стоимости оборудования и его использования примерно на порядок
Здание Института физики микроструктур (ИФМ) РАН
ИФМ РАН
Эта статья заведующего отделом Института физики микроструктур (ИФМ) РАН, доктора физико-математических наук Николая Чхало является продолжением обсуждения разработки в России новейшего EUV-фотолитографа — важнейшей установки, необходимой для изготовления микропроцессоров. Ранее эта тема была затронута в его интервью нашему журналу. На этот раз Николай Иванович рассказывает о новых подходах ИФМ к созданию таких установок, которые позволяют существенно облегчить их разработку и изготовление. Статья является кратким изложением препринта.
Еще по теме:
10.04.2026
Американская компания Anthropic, один из ведущих мировых разработчиков моделей ИИ, 7 апреля объявила о запуске проекта G...
03.04.2026
С 31 марта по 2 апреля в выставочном комплексе «Тимирязев Центр» проходила 20-я международная специализированная выставк...
02.04.2026
Русский изобретатель, конструктор-оружейник Сергей Иванович Мосин родился 2 апреля 1849 года. Победив в острой конкурент...
30.03.2026
Сеченовский университет совместно с концерном «Радиоэлектронные технологии» (КРЭТ) разрабатывает первую отечеств...
Наверх