Шанс для русского литографа

Эта статья заведующего отделом Института физики микроструктур (ИФМ) РАН, доктора физико-математических наук Николая Чхало является продолжением обсуждения разработки в России новейшего EUV-фотолитографа — важнейшей установки, необходимой для изготовления микропроцессоров. Ранее эта тема была затронута в его интервью нашему журналу. На этот раз Николай Иванович рассказывает о новых подходах ИФМ к созданию таких установок, которые позволяют существенно облегчить их разработку и изготовление. Статья является кратким изложением препринта.