«Всё купим», или Как мы помогли ASML

Установки фотолитографии — ключевое оборудование, необходимое при производстве микроэлектроники. Ведущим производителем фотолитографов в мире и практически монополистом в области самых современных EUV-литографов (EUV— Extreme Ultraviolet Lithography, экстремальная ультрафиолетовая литография) является голландская компания ASML, использующая в своих установках покрытия, разработанные членом-корреспондентом РАН, главным научным сотрудником Института физики микроструктур (ИФМ) РАННиколаем Салащенко, который в кооперации с командой разработчиков соответствующего источника излучения (также используемого ASML) из Института спектроскопии РАН сумел создать прототип собственного EUV-фотолитографа еще в 2012 году. Николай Николаевич мечтал, что его разработки помогут России обрести технологический суверенитет в этой важнейшей области экономики. Но этого не случилось. И это одна из причин того, что наша страна сейчас испытывает многочисленные проблемы при производстве микроэлектроники.

О разработках Салащенко в области фотолитографии, в которых использованы результаты его научных достижений в области физики, мы неоднократно писали в нашем журнале.

Николай Николаевич Салащенко скончался 25 января этого года. Мы встретились с учеником и соратником Николая Николаевича заведующим отделом ИФМ, доктором физико-математических наук Николаем Чхало, чтобы обсудить достижения Николая Николаевича, их применение в различных областях науки и техники, перспективы дальнейшего их развития и проблемы, которые возникают на этом пути.