Получите доступ к полному тексту материала
Инновации
1 декабря 2024
Шанс для русского литографа
Российские ученые разработали собственную концепцию развития высокопроизводительной рентгеновской литографии. Она основана на ряде инновационных решений, которые приведут к снижению энергетики литографа, уменьшению его габаритных размеров, стоимости оборудования и его использования примерно на порядок
Здание Института физики микроструктур (ИФМ) РАН
ИФМ РАН
Эта статья заведующего отделом Института физики микроструктур (ИФМ) РАН, доктора физико-математических наук Николая Чхало является продолжением обсуждения разработки в России новейшего EUV-фотолитографа — важнейшей установки, необходимой для изготовления микропроцессоров. Ранее эта тема была затронута в его интервью нашему журналу. На этот раз Николай Иванович рассказывает о новых подходах ИФМ к созданию таких установок, которые позволяют существенно облегчить их разработку и изготовление. Статья является кратким изложением препринта.
Еще по теме:
11.08.2026
На московском предприятии ГК «Лассард» произведены первые опытные образцы эксимерного лазера — ключевого компонента лито...
05.08.2026
Система охраны периметра «Трибоник™» вошла в Реестр российской промышленной продукции Минпромторга. Производитель этой с...
30.07.2026
По сведениям Reuters, в строго охраняемой лаборатории в Шэньчжэне китайские ученые создали прототип фотолитографа, спосо...
13.07.2026
Российская компания Delta Project разработала новый подход к проектированию инженерных систем, который сведет к минимуму...
Наверх